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离子溅射仪(国家专利:201220093483.0)

LZ-Ⅱ离子溅射仪镀膜基本原理是基于荷能正离子轰击靶电极产生溅射现象,靶被溅射出来的中性原子沉淀于基台上样品表面成膜,形成导电层。
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